TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列發(fā)生器可作為直流濺射電源的替代方案，無需改動即可用于現(xiàn)有磁控系統(tǒng)。其提供尤為抗腐蝕且耐磨損的硬質鍍膜，因此是高功率脈沖磁控濺射應用的首要之選。

輕松適配現(xiàn)有陰極系統(tǒng)和工藝條件實現(xiàn)最佳設備集成。

作為*的脈沖式 PVD 濺射工藝，HiPIMS 可提供特別抗腐蝕又耐磨損的硬質鍍膜。

亦可用于直流電模式，無需額外的直流發(fā)生器。

高峰值功率產(chǎn)生高度離子化的等離子體并實現(xiàn)高離子流量。由此可取得非常連貫且致密的薄膜并避免微滴。若與極化基板配置相結合，則 TruPlasma Highpulse 4000 (G2) 系列發(fā)生器可以在刻蝕、溝填應用中提供出色結果。

可調(diào)脈沖寬度與頻率、擴展性能參數(shù)和具有極少電弧能量的全數(shù)字化電弧管理實現(xiàn)無液滴濺射、低限度的薄膜缺陷并保證較高的涂層質量和沉積速率。

憑借高能量與高達 2 kV 的電壓，可以制造出高質量的鍍膜——無論是在小型實驗室里還是在大型工業(yè)設施中?？蛇_ 5 ms 的脈沖與最高 10 kHz 的頻率提高了沉積速率，因此有助于降低總體經(jīng)營成本。

憑借可調(diào)頻率的功率調(diào)節(jié)器確保沉積參數(shù)在高要求的反應工藝中也能保持恒定。因此，工藝得以在幾小時甚至幾天內(nèi)保持穩(wěn)定，無需人為介入。

TruPlasma Highpulse 系列發(fā)生器是一個緊湊型單元。其無需外部直流電源，采用全水冷設計，因此得以在潔凈室內(nèi)工作。